高纯氨产品是光电子、微电子技术不可缺氨赡支撑质料。广泛应用在半导体照明、平板显示、太阳能电池以及大规模集成电路制造领域中。高纯氨的质量直接影响质料的光学性能和电学性能乃至器件的使用寿命。国际、海内都有巨大的潜在市场。随着海内半导体工业的生长

，对高纯氨的需求迅速增长

，高纯电子气体国产化是生长的一定趋势。

    超高纯氨也是金属有机化合物化学气相淀积（MOCVD）技术生产第三代化合物半导体质料氮化镓(GaN)的要害支撑质料。MOCVD技术制备氮化镓（GaN）要求所使用的氨必须高纯超净

，其纯度水平为7N(99.99999%)。由于受技术瓶颈和技术壁垒的限制

，一直以来海内高纯氨纯度抵达6.0N

，难以满足GaN生长技术的要求。随着我国“国家半导体照明工程”的启动

，对GaN用要害支撑质料的需求越发迫切。因此

，突破GaN用超纯白氨的纯化技术

，实现超高纯氨规；

，替代进口产品

，势在必行。

    高纯超净氨是生成薄膜的最基础的成膜源

，氧分子(O2)、水(H2O)和CO2是很是有害的杂质

，其会导致淀积生长的金属及金属化合物活性膜的质量下降。高纯超净氨中的金属杂质对化合物半导体质料的制备是极其有害的

，是影响其光电性能指标的要害因素之一

，除掉高纯氨中氧分子(O2)、水(H2O)和金属杂质

，总杂质含量降到0.1ppm以下是目前国际上气体纯化的难题

，在项目的执行历程中

，解决的要害技术包括：

    1、纯化技术：对应用于半导体领域的高纯气体纯度要求极高

，特别是影响半导体质料生长的氧、水以及其他杂质含量必须抵达ppm-ppb级。针对原料气体的杂质含量、理化性质

，以高效吸赞同高效精馏为主要纯化要领

，重点研制开发了选择性好、吸附容量大、纯化深度高的新型吸附剂、高性能催化剂

，具有吸赞同催化两种功效

，满足杂质脱除使用要求

，本工艺特别宜于规；。

    2、净化技术：为了使高纯超净氨抵达预期的纯度和洁净度

，对与气体接触的所有设备、容器、管路的材质进行预处理

，做到无外貌吸附、无外貌化学反应、无粒子脱落、无死体积、密封性能好。在净化系统中

，选择捕集效率高

，孔径小的高效过滤器

，极大降低产品中的灰尘粒子

，抵达产品超纯洁净。

    3、剖析检测技术：ppb级或ppt（10-9~10-12）级气体杂质、金属离子及灰尘粒子的检测是研制开发高纯氨必须解决的技术要害

，痕量杂质的检测基于建立可靠的剖析要领和先进的检测仪器。在引进了外洋先进的剖析仪器基础上

，建立ppb-ppt级杂质剖析要领。特别是水和金属杂质的剖析

，无论在线照旧抽检都做到数据重复性、准确性。为包管产品质量提供技术包管。

    4、工业化生产技术：接纳吸附、精馏、超滤组合纯化技术

，更易于进行大流量高纯氨纯化处理；接纳具有立异性的工艺历程和操作条件

，对吸附剂再生技术进行革新。吸附剂再生完成后

，接纳特殊反吹技术

，作为下一吸附周期的过渡

，使吸附剂恢复到最高活性

，可以连续、稳定的生产高纯氨产品。